作者：广州依纳 发表时间：2013-03-04
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| 该技术是动、静态结合的高纯氮化硅粉体烧结工艺，其目的是使炉内反应气体保持一定的比例关系；提高控制精度，在静态时控制反应速度，动态时换气。 采用该技术生产的氮化硅粉性能指标已经接近目前德国M11粉，超过日本Danka粉，产品已经出口美国。 该产品纯度高、颗粒细度小、比表面积大，烧结活性及烧结体的性能已达到GUOJI水平：结晶相纯度α相＝95％，游离Si≤0.5％，Ｆe２O３≤0.1％， ＣaＯ≤0.05％，Ｏ≤1.5％，平均粒度Ｄ50≤0.35μｍ，粒径分布Ｄ90＝0.9μｍ，Ｄ99＝1.6μｍ，比表面积BET≥11.5ｍ２/ｇ，粒度与日本宇部兴产株式会社（UBE）粉相近，但是差别小且更易于胶态成型。 该产品主要用于制造生产耐磨、耐高温工件，如用于机加工陶瓷刀具、耐热销、摩擦环、导弹雷达罩、轴承滚珠等。 |
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